Как пишет South China Morning Post, Китай изучает новые возможности производства чипов внутри страны. И одной из таких является передовой литограф, работающий на ускорителе частиц. Команда из Университета Цинхуа уже ведет активные переговоры с властями нового района Сюнган в провинции Хэбэй на севере Китая о выборе строительной площадки для передового проекта.
В планах — построить ускоритель частиц с длиной контура 100–150 метров, в котором луч ускорителя превратится в высококачественный источник света для производства очень «тонких» чипов.
В отличие от мирового лидера в производстве литографов, нидерландской Advanced Semiconductor Materials Lithography (ASML), выступающей за уменьшение размеров машин для изготовления чипов, китайский проект подразумевает строительство огромной фабрики, на которой разместят несколько литографических машин вокруг одного ускорителя. Такой подход обеспечит массовость и дешевизну производства однокристальных систем.
В настоящее время 7-нанометровые чипы …
Свежие комментарии