Дорогущие литографические машины ASML оказались не нужны: Китай наладил выпуск 5-нм чипов без EUV

Китайская компания Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) предприняла шаг, который может кардинально изменить мировую полупроводниковую промышленность. Она освоила производство 5-нм чипов без использования литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV).

Вместо этого SMIC добилась этого, используя старые инструменты глубокого ультрафиолета (DUV) в сочетании с очень сложным процессом, известным как Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP).

Об этом рассказал аналитик полупроводниковой отрасли Уильям Хуо.

Фото ASML

В течение многих лет в отрасли считали, что оборудование для EUV-литографии, производимое исключительно голландской компанией ASML, было незаменимым для изготовления чипов по технологии 5 нм и современнее. Без доступа к EUV-системам из-за экспортных ограничений, введенных США и их союзниками, большинство аналитиков полагали, что Китай остановится на отметке 7 нм.

Вместо этого SMIC продвигалась вперед, используя методы DUV, выжимая каждый …