Глубокий ультрафиолет (DUV) с длиной волны 193 нм — золотой стандарт в производстве микропроцессоров. Этот свет позволяет «вырезать» на кремниевых пластинах элементы размером в несколько нанометров, формируя основу современных электронных устройств. Однако традиционные источники такого излучения — громоздкие газовые лазеры — ограничивают миниатюризацию и энергоэффективность установок.
Прорыв совершили исследователи из Китайской академии наук: они создали первый компактный твердотельный лазер, генерирующий не только 193-нм излучение, но и вихревой пучок, способный совершить революцию в нанолитографии и квантовых технологиях.

Новая система работает на частоте 6 тысяч импульсов в секунду. Её сердце — усиливающий элемент из кристалла Yb:YAG, выращенного в лаборатории. Исходный инфракрасный лазер (1030 нм) разделяется на два пучка. Первый проходит через систему кристаллов, преобразующих его в ультрафиолетовый луч 258 нм …
Свежие комментарии