Ключ к независимости в производстве чипов: Huawei тестирует передовой EUV-литограф, который сможет заменить «санкционные машины»

Китай делает значительный шаг вперёд в разработке технологий экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии, которая долгое время оставалась прерогативой нидерландской компании ASML. Новый литографический комплекс, проходящий тестирование на заводе Huawei в Дунгуане, использует инновационную технологию плазмы, индуцированной лазерным разрядом (LDP).

Пробное производство системы намечено на третий квартал 2025 года, а массовый выпуск запланирован на 2026 год. Успех проекта способен разрушить техническую монополию ASML в области передовой литографии.

Изображение сгенерировано Grok

В отличие от метода ASML, основанного на лазерно-индуцированной плазме (LPP), китайская система LDP генерирует EUV-излучение с длиной волны 13,5 нм за счёт испарения олова между электродами и преобразования его в плазму с помощью высоковольтного разряда. Столкновения электронов и ионов в этой плазме создают необходимую длину волны. Такой подход обеспечивает ряд преимуществ: упрощённую архитектуру, меньшие …